Название спецсеминара на английском языке
Computational lithography techniques for chip design
Авторы курса
Алешин Станислав Владимирович, Родин Сергей Борисович
Пререквизиты
Отсутствуют
Целевая аудитория
3-6 курс, магистранты
аспиранты
Подразделение
[Кафедра МаТИС]
Семестр
Год
Является ли семинар просеминаром?
Нет
Учебный год
2025/26
Список тем
Общая схема производства чипа. Место фотолитографии в этом процессе
Физические основы фотолитографии
Математические методы в задаче рассчета оптического изображения
Моделирование процессов, происходящих в фоточуствительном слое при засветке
Понятия обратной задачи. Задача коррекции оптической близости
Задача совместной оптимизации маски и источника
Список источников
Fundamental Principles of Optical Lithography: The Science of Microfabrication. Chris Mack. 2007 John Wiley & Sons, Ltd. ISBN: 978-0-470-01893-4
Физическая оптика, С.А. Ахманов, С.Ю. Никитин, 2-е издание, Москва 2004, Издательство Наука
День недели
четверг
Время
18:30-20:05
Аудитория
410
Дата первого занятия
Аудитория первого занятия
Ещё не назначена